第167章 来之顶级思维的震慑

会议室里的气氛突然间变得有些怪异。

张工和几位核心骨干面面相觑，若非顾及许浪是重要客户的ceo，他们可能当场就要拂袖而去了。

半导体显示制造可是技术活，岂是一个什么都不懂的外行就能信口开河的？

王升也暗自捏了把汗，他知道这位年轻的许总在商业上是个奇才，但在这种硬核技术领域如此托大，怕是要闹笑话了。

许浪却没有理会众人的眼光，直接走到张工等人讨论的白板前，在张工刚刚列出的阵列段tft成膜均匀性差的下方重重地点了一下。

“我们先解决第一点。”

许浪的声音平稳，不带一丝炫耀的成分，仿佛只是在陈述一个再普通不过的常识。

“张工，如果我猜得没错，你们在调试这条6代线的时候，应该是很大程度上照搬了当年从韩国现代收购来的5代线的成膜工艺参数，对吧？”

张工的脸色微微一变，有些不自然地点了点头：“是的，这也是没办法的事，高世代线的经验我们太匮乏了，只能在已有成熟产线的基础上进行摸索放大。”

“我估计这就是症结所在。”许浪转身面向众人，手中的记号笔在白板上飞速画出一个简易的pvd溅射腔体示意图。

“6代线的玻璃基板尺寸比5代线大了不止一倍，基板面积一变大，腔体内部的气流场分布、等离子体密度就会发生翻天覆地的变化，你们完全照搬5代线的参数，中心区域或许没问题，但边缘区域的气流就会出现涡流和逸散，这必然导致非晶硅薄膜边缘成膜不均，也就是你们说的厚度偏差超过15%。”

这番话说出来，张工原本微皱的眉头慢慢舒展开来，眼中闪过一丝错愕，内心也开始思考起许浪刚刚说的话。

这道理说破了不难，但在实际生产中由于参数变量成百上千，工程师们往往身在局中不知局，很容易陷入思维定势。

许浪没有停顿，手中的笔在示意图上连点了几个关键位置。

“我觉得可以这样进行一下尝试，第一，重新设计pecvd溅射腔体的气体流量配比和靶材功率梯度，把氩气与硅烷的比例往上调一档......”

“第二，靶材边缘功率不要怕烧坏，也是往上提升一些进行尝试，用局部的高能量强行弥补边缘区域气流逸散导致的成膜率下降......”

说到这里，许浪顿了顿，继续抛出了一个让在场所有人都还没想过的想法。

“至于刻蚀缺陷率高的问题，其实我们可以不用死磕刻蚀机的精度，机台精度是物理极限，我们要从设计源头去补偿。”

许浪在白板上快速勾勒出一个像素开口的形状，将其一端微微放大，形成一个不规则的梯形。

“我们可以引入梯形像素开口补偿设计，在光刻掩膜版的设计阶段，我们就故意在基板边缘区域的像素图形上做出一定比例的尺寸放大，用来抵消后续曝光时的衍射效应和刻蚀时的侧向钻刻偏差......”

随着许浪的不断述说，整个会议室鸦雀无声，现场如同老师在上课一样，其余的人都愣愣地看着许浪，满眼的惊讶。

张工更是瞪大了眼睛，死死地盯着白板上那些看似随意却准确的修改建议。