第198章 国產EUV光源突破
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  华夏芯谷euv光源实验室的恆温车间里，空气仿佛被持续数年的高压凝成了固態。
  巨大的二氧化碳雷射器阵列占据了半个厂房，发出低沉的嗡鸣，如同蛰伏的巨兽。
  核心测试区的观察窗后，金秉洙博士双手紧握护栏，指节因用力而泛白，布满血丝的眼睛死死盯著主控屏幕上那条代表著生命线的绿色曲线，euv光源实时功率稳定度，此刻正顽强地停留在97.2%。
  距离量產要求的98%仅一步之遥，这一步，却如同天堑。
  “徐教授，情况不乐观！”
  一位年轻工程师快步走到徐文渊身边，递上最新的检测报告，声音带著焦虑，
  “连续运行四小时后，锡滴发生器喷嘴的錸铱鉭合金表面，出现了微观裂纹！锡滴喷射均匀度正在下降，等离子体稳定性受到影响！”
  徐文渊接过报告，目光锐利地扫过扫描电镜图像上那些如同蛛网般蔓延的细微裂纹。
  这位材料学泰斗眉头紧锁：
  “我们目前的錸铱鉭合金，抗疲劳强度已是国內顶尖，但euv光源的环境太苛刻了，每秒数万次雷射轰击，瞬时温度超两万度，这对任何材料都是极限考验。而且……”
  他顿了顿，语气沉重，
  “我们通过特殊渠道获取的高纯度錸金属即將耗尽，后续批次国產錸的纯度，恐怕难以维持现有性能。”
  林薇站在一旁，脸色凝重。
  阿斯莫的封锁不仅限於整机，已蔓延至核心材料和部件。
  “金博士，能否调整雷射参数？適当降低峰值功率，延长脉衝宽度，或许能减轻衝击？”