第442章 协商会议

  接下来是產业现状分析。

  马宇腾用三个段落，勾勒出了2006年东大半导体设备產业的全貌。

  光刻机领域：魔都微电子是唯一一家具备整机研製能力的企业，但其研发的分布式投影光刻机尚处於原型机阶段，製程水平停留在280纳米，与国际主流的90纳米量產水平相差三代以上。

  核心零部件如光源系统、高精度物镜组、双工件台等，几乎全部依赖进口。

  蚀刻机领域：东微半导体刚刚起步，第一代介质蚀刻机尚未完成全部验证测试。与国际巨头应用材料、泛林半导体的技术仍有不小的差距。

  薄膜沉积和离子注入领域：国內没有任何一家企业具备成熟的研发能力。

  三段话写完，马宇腾停了下来。

  他盯著屏幕，手指悬在键盘上方。

  议案的第三部分是建议措施。

  这一部分他反覆斟酌了很久。

  太保守，等於白写。

  太激进，会被认为不切实际。

  最终他落笔，列出了四条具体建议。

  第一，建议国家设立半导体设备专项研发基金，初期规模不低於五十亿元。这笔钱不撒胡椒麵，集中投向光刻机、蚀刻机、薄膜沉积三个卡脖子环节。

  第二，建议鼓励和支持国內科研机构与设备企业开展联合攻关。他特別提到了kbbf晶体在光刻机光源领域的应用潜力，建议科学院与魔都微电子建立协作机制，探索具有自主智慧財產权的全固態深紫外光源技术路线。