161.第161章 第一台光刻机

  海湾科技也不仅仅有比较先进的duv干式光刻机项目，其实也有看似更落后，用248纳米波长光源，最低制程可以做到一百三十纳米工艺的krf光刻机。

  甚至连波长365纳米，最低制程只有三百五十纳米的i-line;光刻机项目都有。

  因为哪怕到了二十年代中期了，更低技术krf光刻机，甚至i-line光刻机依旧有着广泛的市场需求和价值！

  22年的荷兰asml光刻机出货上，最顶级的euv光刻机是四十台，arfi（duv浸润式）是八十一台，arf(duv干式)二十八台。

  然后看似已经落后的第三代krf光刻机，出货量则是惊人的一百五十一台。

  甚至第二代的i-line光刻机，出货量都有四十五台。

  以上说的可是最顶级的光刻机厂商荷兰asml。

  然后还有尼康，他们的arfi出货四台，arf四台，krf七台，i-line十五台。

  然后是佳能，krf五十一台，i-line一百二十五台。

  看似落后的第二代i-line光刻机以及第三代krf光刻机，到了二十年代出货量依旧非常大。

  而且这说的是前道光刻机，不包括后道光刻机，后道光刻机的工艺制程普遍更低，出货量同样巨大。

  为什么会这样？

  因为抛开手机和电脑以及一些智能终端，其实普通设备所需的芯片，对制程要求没那么高。

  广泛应用各行各业的微控制器、电力电子器件、电信电路、汽车电子以及许多其他器件，因为技术和成本的原因，基本上65-350nm就够用了，而且这部分低制程工艺生产的产品，占市场的 60%以上！

  俄罗斯在战争期间以倾国之力发展出来的三百五十纳米制程的光刻机，其实就是属于第二代的技术水平……而这已经足以维持其战争，基本社会工业运转的需求。