第208章 208章

  临安发布会引发的衝击波，在跨越重洋之后，呈现出一种奇特的、分裂的效应。

  在华尔街的恐慌性拋售与硅谷的愤怒摔杯之外，另一股潜流，正在世界各地的实验室、大学、高科技公司的研发部门，以及那些遍布全球的华人学术社区中，悄然而汹涌地涌动。

  加州，硅谷，某顶尖半导体公司研发中心。

  深夜，实验室的灯光依旧明亮。

  张明轩博士，一位来自中国、在此工作已近十年的资深材料科学家，刚刚结束了一个令人沮丧的工艺实验。

  他揉了揉发胀的太阳穴，习惯性地点开了常去的海外华人工程师论坛，想看看有没有同行交流些新思路，排解下压力。

  论坛首页，赫然被一个加精飘红的帖子占据——《临安惊雷：深度技术解析『昊天』s1晶片可能採用的创新架构与材料》。

  发帖人显然是个內行，虽然基於有限信息，但分析得头头是道，特別是关於那“不正常的能效比”和“90nm工艺下实现的惊人频率”，提出了几种基於新型高k介质、应力工程、甚至三维堆叠思路的大胆猜想。

  帖子下面，已经盖起了数千层的高楼，討论热烈至极。

  张明轩屏住呼吸，逐字逐句地看完主帖和分析，又快速瀏览了前面几十页的討论。他的心臟开始不受控制地加速跳动。

  那些猜想，有些甚至比他所在公司的秘密预研项目思路还要超前、还要精妙！

  而更重要的是，回帖中涌现出的id，很多都是他认识的、散落在各大公司和研究机构的华人工程师、科学家！

  他们平时在现实中或许谨小慎微，但在网络的掩护下，此刻却迸发出惊人的专业见解和洞察力。

  “王工在ti搞rf的，他这个关於『昊天』集成內存控制器延迟的分析，一针见血！”

  “李姐在应用材料，她怀疑『江记』可能自研了某种新型的原子层沉积前驱体，不然柵氧厚度控制做不到这么好……”