第455章 给光刻机建设一个核电站
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  陈寧皱了皱眉头，作为这个研究小组的负责人，他最近也是在加班加点，可进度並不遂人愿。
  “陈总，还不是特別顺利。”
  “当初我们学的是用193nm的arf准分子雷射的第四代光刻机，所以在光源理论上面比较生疏。”
  “而且从德国订购的实验仪器，他们卖给我们的也不是最先进的。”
  “还有存储环，我们国內也很不理想……”
  陈尘对此表示理解，嘆了口气道：“这很正常。”
  “要追赶上国际水平很不容易，况且我们这次还是弯道超车。”
  “不过仪器和存储环，我们的朋友会在月底给你们。”
  陈尘口中的朋友自然是魔都微电的徐丛，这些傢伙什没有一定的关係以及实力，一般人还真搞不定。
  “阿斯麦尔公司用的是高能雷射轰击液態锡靶，形成等离子体后產生波长13.5nm的euv光源，未来隨著晶片工艺节点的不断缩小，对euv光源的功率要求也会不断提升，很快就会到达他们的临界点。”
  “而我们的ss1mb的euv光源，则是可以实现更大的功率，还有向更短波长扩散的潜力，所以我们技术的前景是可以预见的。”
  “你们不用著急，一定要把理论做扎实，等到了落地实验才会走的更稳。”
  陈寧点头，“陈总，我知道，我们这边的人每天下班后还会自发加班学习，就为了让咱们未来不用看別人的脸色，所以大家的动力是很足的。”
  “但是陈总，根据我们的理论，这个新技术的能耗会非常高，如果用来製作普通晶片的话，成本会比国外高上一大截的。”
  “可不用更大的平均功率，能耗降低也无法有更短的波长產生，也就没办法作为光刻机的光源。”